您可以為所有的蔡司Xradia Versa 儀器選配原位接口套件，包括機(jī)械集成套件、堅(jiān)固的布線導(dǎo)槽和其它設(shè)施（饋入裝置），以及基于測試規(guī)程的軟件，它能夠簡化蔡司“定位- 和- 掃描”（Scout-and-Scan）用戶界面中的操作。在蔡司Xradia Versa 上體驗(yàn)原位裝置高水平的穩(wěn)定性、靈活性和集成控制，得益于其光學(xué)架構(gòu)設(shè)計(jì)，在變化的環(huán)境條件下不會(huì)犧牲分辨率。

場發(fā)射顯微鏡作為表面科學(xué)研究的里程碑技術(shù)，歷經(jīng)80余年發(fā)展仍保持著旺盛的生命力。隨著納米制造技術(shù)的進(jìn)步和跨學(xué)科研究的深入，場發(fā)射技術(shù)正在向更高時(shí)空分辨率、更復(fù)雜環(huán)境適應(yīng)性的方向發(fā)展。其在低維材料表征、量子器件開發(fā)等領(lǐng)域的特優(yōu)勢，預(yù)示著這一經(jīng)典技術(shù)將在新一輪科技革命中繼續(xù)發(fā)揮關(guān)鍵作用。

納米材料表征
碳納米管場增強(qiáng)因子可達(dá)3000，發(fā)射電流密度達(dá)10^7 A/cm2
石墨烯邊緣缺陷位點(diǎn)顯示局部場發(fā)射增強(qiáng)現(xiàn)象